第114章 芯片技术
北明有鱼2020-08-29 10:011,989
首先，将光致抗蚀剂（光敏树脂）滴在硅晶片上，并通过高速旋转均匀地涂覆光致抗蚀剂膜，并在适当的温度下固化光致抗蚀剂膜。
光刻胶是一种对光，温度和湿度非常敏感的材料。它可以在曝光后改变华雪的特性，这是整个过程的基础。
下一步是紫外线照射。
就单个技术过程而言，光刻过程是最复杂且最昂贵的。
因为光刻模板，
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